Группа компаний "АВАКС"
    Надежное оборудование от ведущих производителей и собственного производства

    ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ • КОМПОНЕНТЫ ВАКУУМНЫХ СИСТЕМ • РАСХОДНЫЕ МАТЕРИАЛЫ















    Консультации on-line:
    ICQ: 281785897
    Skype: AVACUUM

    E-mail: info@avacuum.ru
    Web: https://www.avacuum.ru

    Тел: +7 (812) 702-82-28
    +7 (812) 372-55-45
    Факс: +7 (812) 372-55-45

    АВАКС в социальных сетях:

    Главная > Материалы > Материалы и мишени для распыления > Мишени, изготовленные из бинарных соединений >

    Мишени, изготовленные из бинарных соединений


    Материалы и мишени для распыления от производителей по низким ценам. Скидки. Квалифицированные консультации.

    Общие сведения

    Возможна поставка мишеней, изготовленных из оксидов, нитридов, карбидов, фторидов, сульфидов и других соединений, в том числе из материалов, предназначенных для получения прозрачных проводящих покрытий. Основными технологиями для изготовления мишеней являются прессование и горячее прессование. Чистота мишени - от 99% до 99.99% в зависимости от состава. Изготовленные мишени имеют высокую плотность и равномерную внутреннюю структуру, что обеспечивает постоянную скорость распыления, однородную эрозию мишени, высокую чистоту и однородность напыляемых покрытий. Поставляются в вакуумной упаковке.

    Мишени, изготовленные из бинарных соединений
    Оксид Алюминия
    Aluminum Oxide
    Материал: Al2O3
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    3.98 г/см3
    Оксид Ванадия
    Vanadium Oxide
    Материал: V2O5
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    3.35 г/см3
    Оксид Вольфрама
    Tungsten Oxide
    Материал: WO3
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    12.1 г/см3
    Оксид Гадолиния
    Gadolinium Oxide
    Материал: Gd2O3
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    7.407 г/см3
    Оксид Галлия
    Gallium Oxide
    Материал: Ga2O3
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    6.44 г/см3
    Оксид Гафния
    Hafnium Oxide
    Материал: HfO2
    Чистота: 99.95%
    Плотность:
    9.68 г/см3
    Оксид Индия
    Indium Oxide
    Материал: In2O3
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    7.179 г/см3
    Оксид Иттрия
    Yttrium Oxide
    Материал: Y2O3
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    5.01 г/см3
    Оксид Кремния
    Silicon Oxide
    Материал: SiO
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    2.24 г/см3
    Диоксид Кремния
    Silicon Dioxide
    Материал: SiO2
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    2.1 г/см3
    Оксид Магния
    Magnesium Oxide
    Материал: MgO
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    3.58 г/см3
    Оксид Молибдена
    Molybdenum Oxide
    Материал: MoO3
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    4.69 г/см3
    Оксид Никеля
    Nickel Oxide
    Материал: NiO
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    6.7 г/см3
    Оксид Ниобия
    Niobium Oxide
    Материал: Nb2O5
    Чистота: 99.95%
    Плотность:
    4.47 г/см3
    Оксид Олова
    Tin Oxide
    Материал: SnO2
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    6.95 г/см3
    Оксид Самария
    Samarium Oxide
    Материал: Sm2O3
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    8.347 г/см3
    Оксид Тантала
    Tantalum Oxide
    Материал: Ta2O5
    Чистота: 99.95%
    Плотность:
    8.2 г/см3
    Оксид Титана
    Titanium Oxide
    Материал: TiO2
    Чистота: 99.95%
    Плотность:
    4.29 г/см3
    Оксид Хрома
    Chromium Oxide
    Материал: Cr2O3
    Чистота: 99.90%
    Плотность:
    5.21 г/см3
    Оксид Церия
    Cerium Oxide
    Материал: CeO2
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    7.13 г/см3
    Оксид Цинка
    Zinc Oxide
    Материал: ZnO
    Чистота: 99.99%
    Плотность:
    5.6 г/см3
    Оксид Циркония
    Zirconium Oxide
    Материал: ZrO2
    Чистота: 99.95%
    Плотность:
    5.49 г/см3