|
ООО "АВАКС"
Научно-производственная фирма
ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ •
КОМПОНЕНТЫ ВАКУУМНЫХ СИСТЕМ • РАСХОДНЫЕ МАТЕРИАЛЫ
|
|
|
|
|
Консультации on-line:
|
|
|
|
|
| Главная > Вакуумные установки > Установки напыления > |
Установки напыления
 | Установки магнетронного распыления
В системах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. Распыление материала мишени происходит за счет бомбардировки ее поверхности ионами рабочего газа, которые образуются в газе аномально тлеющего разряда, локализованного непосредственно у поверхности мишени. |
 | Установки магнетронного и резистивного напыления
В качестве устройств распыления используются магнетроны и резистивные испарители. В процессах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. При резистивном испарении источником материала для осаждаемой пленки является навеска, которая размещается в нагреваемой лодочке (или аналогичном приспособлении). |
 | Установки электронно-лучевого напыления
В установках электронно-лучевого напыления распыление материала мишени-таблетки происходит за счет энергии потока электронов, ускоренных электрическим и сфокусированного магнитным полем. |
|
|
|
давления
