ООО "АВАКС"
    Научно-производственная фирма

    ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ • КОМПОНЕНТЫ ВАКУУМНЫХ СИСТЕМ • РАСХОДНЫЕ МАТЕРИАЛЫ












    Консультации on-line:
    ICQ: 281785897
    Skype: AVACUUM

    E-mail: info@avacuum.ru
    Web: https://www.avacuum.ru

    Тел: +7 (812) 702-82-28
    +7 (812) 372-55-45
    Факс: +7 (812) 372-55-45

    Главная > Вакуумные установки > Установки напыления >

    Установки напыления


    Установки магнетронного распыления

    В системах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. Распыление материала мишени происходит за счет бомбардировки ее поверхности ионами рабочего газа, которые образуются в газе аномально тлеющего разряда, локализованного непосредственно у поверхности мишени.
    Установки магнетронного и резистивного напыления

    В качестве устройств распыления используются магнетроны и резистивные испарители. В процессах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. При резистивном испарении источником материала для осаждаемой пленки является навеска, которая размещается в нагреваемой лодочке (или аналогичном приспособлении).
    Установки электронно-лучевого напыления

    В установках электронно-лучевого напыления распыление материала мишени-таблетки происходит за счет энергии потока электронов, ускоренных электрическим и сфокусированного магнитным полем.