ООО "АВАКС"
Научно-производственная фирма

ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ • КОМПОНЕНТЫ ВАКУУМНЫХ СИСТЕМ • РАСХОДНЫЕ МАТЕРИАЛЫ













Консультации on-line:
ICQ: 281785897
Skype: AVACUUM

E-mail: info@avacuum.ru
Web: https://www.avacuum.ru

Тел: +7 (812) 702-82-28
+7 (812) 372-55-45
Факс: +7 (812) 372-55-45

Главная > Вакуумные установки > Установки напыления >

Установки напыления


Установки магнетронного распыления

В системах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. Распыление материала мишени происходит за счет бомбардировки ее поверхности ионами рабочего газа, которые образуются в газе аномально тлеющего разряда, локализованного непосредственно у поверхности мишени.
Установки магнетронного и резистивного напыления

В качестве устройств распыления используются магнетроны и резистивные испарители. В процессах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. При резистивном испарении источником материала для осаждаемой пленки является навеска, которая размещается в нагреваемой лодочке (или аналогичном приспособлении).
Установки электронно-лучевого напыления

В установках электронно-лучевого напыления распыление материала мишени-таблетки происходит за счет энергии потока электронов, ускоренных электрическим и сфокусированного магнитным полем.