Научно-производственная компания "АВАКС" | Вакуумное оборудование | Вакуумные системы | Вакуумные установки

Фланцы вакуумные

Уплотнения

вакуумные

Монтажные

Установки напыления

Установки магнетронного распыления

В системах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. Распыление материала мишени происходит за счет бомбардировки ее поверхности ионами рабочего газа, которые образуются в газе аномально тлеющего разряда, локализованного непосредственно у поверхности мишени.

Установки магнетронного и резистивного напыления

В качестве устройств распыления используются магнетроны и резистивные испарители. В процессах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. При резистивном испарении источником материала для осаждаемой пленки является навеска, которая размещается в нагреваемой лодочке (или аналогичном приспособлении).

Установки электронно-лучевого напыления

В установках электронно-лучевого напыления распыление материала мишени-таблетки происходит за счет энергии потока электронов, ускоренных электрическим и сфокусированного магнитным полем.