Группа компаний "АВАКС"
Надежное оборудование от ведущих производителей и собственного производства

ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ • КОМПОНЕНТЫ ВАКУУМНЫХ СИСТЕМ • РАСХОДНЫЕ МАТЕРИАЛЫ














Консультации on-line:
ICQ: 281785897
Skype: AVACUUM

E-mail: info@avacuum.ru
Web: https://www.avacuum.ru

Тел: +7 (812) 702-82-28
+7 (812) 372-55-45
Факс: +7 (812) 372-55-45

Главная > Вакуумные установки > Установки напыления > Установка нанесения покрытий методами магнетронного и резистивного распыления >

Установка нанесения покрытий методами магнетронного и резистивного распыления


В качестве устройств распыления в установке используются магнетроны и резистивные испарители. В процессах магнетронного распыления источником материала для осаждаемой пленки является мишень устройства магнетронного распыления. При резистивном испарении источником материала для осаждаемой пленки является навеска, которая размещается в нагреваемой током испарителе (лодочке или аналогичном приспособлении).

Область применения: мелкосерийное производство, исследования покрытий, использование в качестве составной части технологической линейки в лабораторных условиях. Назначение: формирование покрытий для микроэлектроники, металлизация керамики, нанесение защитных покрытий и многое другое.

Стандартное исполнение установки включает оборудование вакуумной камеры двумя устройствами магнетронного распыления постоянного тока АВ5100 и позицией резистивного испарения с двумя испарителями, которые могут использоваться последовательно (испарители экранированы друг от друга). В стандартном исполнении установка предназначена для последовательного одностороннего осаждения покрытий (соиспарение не предусмотрено). По согласованию с заказчиком комплектация устройствами распыления может быть изменена.

Платформа, на основе которой создавалась установка, предусматривает возможность использования различного внутрикамерного оборудования (в том числе монтаж испарителей другого типа). Поэтому, при необходимости, установка может быть переоборудована или снабжена дополнительным оборудованием, устанавливаемым с использованием дополнительных портов (свободных в стандартной комплектации) ISO-K160, ISO-KF40, т.е. без существенных изменений конструкции вакуумной камеры.


Варианты комплектации установки устройствами распыления
Устройства распыления/Исполнения 2DCR DCRFR 2RFR 3DC 2DCRF DC2RF 3RF
Устройство магнетронного распыления постоянного тока (DC) 2 1 0 3 2 1 0
Устройство высокочастотное устройство магнетронного распыления (RF) 0 1 2 0 1 2 3
Резистивная позиция с двумя испарителями 1 1 1 0 0 0 0


Общие характеристики установки в стандартном исполнении
Параметр Ед.
изм.
Значение / описание
Вакуумная камера D - образная (D-shaped) с фронтальной дверью
Смотровое окно на фронтальной двери Ø 160, с защитой от напыления (дополнительное стекло с вакуумной стороны + заслонка)
Охлаждение камеры рубашка охлаждения с наружной стороны, включая фронтальную дверь
Материал вакуумной камеры нерж. сталь AISI304
Обработка поверхности электрополировка
Условный диаметр мм 450
Высота мм 500
Вакуумная система с байпасной линией откачки
Тип затвора и клапанов вакуумной системы с пневмоуправлением
Давление сжатого воздуха, необходимое для работы установки кг/см2 4 – 6
Насос предварительной откачки спиральный, ISP-250C
Быстрота откачки насоса предварительной откачки л/мин 250
Высоковакуумный насос турбомолекулярный, HiPace700
Быстрота откачки высоковакуумного насоса по азоту л/с 790
Материал уплотнений FKM (витон)
Стандарты портов вакуумной камеры ISO-K, ISO-KF
Возможность монтажа дополнительного оборудования есть, доп.порты ISO-K160, ISO-KF40 - по 2 шт.
Предельное остаточное давление, не более Торр 5×10-7
Время откачки от атмосферы до 1×10-6 Торр, не более мин 30
Площадь подложкодержателя см2 160
Суммарная площадь, используемая для загрузки подложек в одном технологическом цикле см2 480
Конструктивное исполнение моноблок (стойка управления интегрирована со станиной)
Габаритные размеры, мм, не более мм 1270×840×1930
Масса, не более кг 500
Электропитание (сеть переменного тока 50 Гц) В 380
Потребляемая мощность, кВт, не более кВт 25
Потребление охлаждающей воды, не более м3/час 4
Система управления автоматизированная, с сенсорной панелью оператора
Вакуумная система

Вакуумные насосы установки напыления - спиральный ISP-250C от Anest Iwata и турбомолекулярный HiPace700 с гибридным подвесом ротора от Pfeiffer Vacuum отличаются с одной стороны очень высокой надежностью, с другой - простотой обслуживания и ремонтопроигодностью (операции по обслуживанию могут быть выполнены в условиях предприятия Заказчика или, конечно, нашей компанией).

Вакуумная система установки - на основе надежных и качественных компонентов от HighLight Tech/ Corp (HTC, Тайвань), а также компонентов нашего производства. Диаметр условного прохода вакуумных магистралей - 25 мм, входной фланец турбомолекулярного насоса - DN (ДУ) 160 мм.

Датчики остаточного давления - активные. На выхлопе турбомолекулярного насоса установлен терморезисторный (Пирани) датчик, на камере - широкодиапазонный (Пирани - магниторазрядный) датчик.

Комплектующие пневматической системы управления клапанами и высоковакуумным затвором, а также компоненты системы охлаждения, использующиеся при изготовлении установки напыления, - от ведущего производителя пневматических компонентов SMC Corp. Присоединения к внешним магистралям - с помощью быстроразъемных фитингов.

Устройства распыления и оснастка вакуумной камеры

Оснастка вакуумной камеры установки магнетронного/резистивного распыления полностью разработана и на 90% изготовлена нашей компанией.

Устройства магнетронного распыления в стандартной комплектации - серии АВ5100 (постоянного тока) (Подробнее>>>). Система подачи рабочего газа в вакуумную камеру - двухканальная АВ4202 (Подробнее>>>), выполнена с учетом всех требований, предъявляемым к системам для сверхчистых газов. Стабилизация давления рабочего газа в вакуумной камере во время технологического процесса осуществляется посредством изменения потока рабочего газа по сигналу с датчика остаточного давления в вакуумной камере. Для альтернативных комплектаций установки напыления могут использоваться и другие устройства магнетронного напыления семейства АВ5ххх (Подробнее>>>).

Позиция резистивного испарения имеет водоохлаждаемые токовводы и состоит из двух параллельно расположенных испарителей, на которые последовательно может быть подано напряжение. Между испарителями расположен экран для исключения смешивания распыляемых материалов. Резистивная позиция в стандартном исполнении оборудуется системой контроля толщины на основе кварцевого резонатора.

Конструкция держателей подложек как правило согласуется с Заказчиком. В соответствии с пожеланиями конструкция держателей может быть различна, в том числе, например, держатели могут быть водоохлаждаемыми. Последняя фотография в верхнем ряду - пример исполнения водоохлаждаемого держателя для предотвращения задубливания фоторезиста при возможном перегреве в процессе напыления покрытия на полупроводниковую структуру. В зависимости от конструкции и расположения держателей (на карусели, планетарном механизме и т.п.) определяются требования к однородности по толщине осаждаемых покрытий.

Установка снабжена приводом на основе шагового двигателя, обеспечивающим автоматическое позиционирование держателей подложек над тем или иным испарителем. Для позиционирования достаточно выбрать испаритель и подложкодержатель.

Система управления с сенсорным экраном

Система управления построена на основе современного промышленного контроллера (ПЛК). Вывод информации и управление установкой осуществляется с 12.1" цветного сенсорного дисплея (TFT, разрешение 1024 x 768).

Система управления обеспечивает:

Управление технологическими устройствами и технологическими процессами в ручном режиме и по заданной программе;

Вывод на экран информации о состоянии запорной и регулирующей арматуры, а также всех параметров, значимых для работы вакуумной системы и проведения технологических процессов;

Режимы работы: ручной (с локальной автоматикой, запрещающей неверные действия оператора), автоматический, настройка;

Разграничение прав доступа к настройкам системы управления для обслуживающего персонала;

Создание, редактирование, хранение, выполнение "рецептов" проведения технологических процессов по заданной программе;

Обработка аварийных ситуаций и неверных действий оператора в ручном режиме, экстренное отключение установки и безопасная остановка насосов при необходимости.